國華電子低溫等離設(shè)備增加結(jié)合力、親水性

產(chǎn)生等離子體的裝置是在密封容器中設(shè)置兩個電極形成電場，用真空泵實現(xiàn)一定的真空度，隨著氣體愈來愈稀薄，分子間距及分子或離子的自由運動距離也愈來愈長，受電場作用，它們發(fā)生碰撞而形成等離子體，這些離子的活性很高，其能量足以破壞幾乎所有的化學(xué)鍵，在任何暴露的表面引起化學(xué)反應(yīng)，不同氣體的等離子體具有不同的化學(xué)性能，如氧氣的等離子體具有很高的氧化性，能氧化光刻膠反應(yīng)生成氣體，從而達到清洗的效果；腐蝕性氣體的等離子體具有很好的各向異性，這樣就能滿足刻蝕的需要。利用等離子處理時會發(fā)出輝光，故稱之為輝光放電處理。
 

等離子表面處理設(shè)備主要是依靠等離子體中活性粒子的“活化作用”達到去除物體表面污漬的目的。就反應(yīng)機理來看，等離子體清洗通常包括以下過程：無機氣體被激發(fā)為等離子態(tài)；氣相物質(zhì)被吸附在固體表面；被吸附基團與固體表面分子反應(yīng)生成產(chǎn)物分子；產(chǎn)物分子解析形成氣相；反應(yīng)殘余物脫離表面。

國華電子低溫等離設(shè)備增加結(jié)合力、親水性

與傳統(tǒng)使用物理打磨機和有機溶劑的濕法清洗相比，等離子表面處理器具備以下優(yōu)勢:
等離子表面處理器的清洗方式是干式清洗，不需要再經(jīng)干燥處理即可送往下一道工序。可以大幅提高整個工藝流水線的處理效率;
等離子表面處理機使得用戶可以遠離有害溶劑對人體的傷害，同時也避免了濕法清洗中容易洗壞清洗對象的問題;
避免使用三氯乙烷等ODS有害溶劑，這樣清洗后不會產(chǎn)生有害污染物，因此這種屬于環(huán)保的綠色清洗方法。這在高度關(guān)注環(huán)保的情況下越發(fā)顯出它的重要性;
采用無線電波范圍的高頻產(chǎn)生的等離子體與激光等直射光線不同。等離子表面處理器等離子體的方向性不強，這使得它可以深入到物體的微細孔眼和凹陷的內(nèi)部完成清洗任務(wù)，因此不需要過多考慮被清洗物體的形狀。而且對這些難清洗部位的清洗效果與氟利昂清洗的效果像是甚至更好;

  公司由多名*從事等離子體技術(shù)應(yīng)用研究，設(shè)備制造和銷售的業(yè)內(nèi)人事創(chuàng)建。核心技術(shù)發(fā)展于歐洲，同時充分借鑒歐美的*技術(shù)，并通過與國內(nèi)外研發(fā)機構(gòu)合作，整合各行業(yè)的資源優(yōu)勢，生產(chǎn)出多系列具有自主知識產(chǎn)權(quán)的高性能的等離子體處理系統(tǒng)。集團合作團隊包括 EUROPLASMA、PSM等，應(yīng)用領(lǐng)域涉及電子、光電、汽車、塑膠、紡織、生物、醫(yī)療、化工、日用品及家電等行業(yè)。

      我們倡導(dǎo)技術(shù)創(chuàng)新，充分發(fā)揮新技術(shù)在企業(yè)經(jīng)營中的主導(dǎo)作用，以滿足客戶的個性化需求為己任，為客戶提供與等離子處理系統(tǒng)相關(guān)技術(shù)的支持與服務(wù)，致力于成為的行業(yè)*！