- 設備用途
本設備主要用于碳素制品的化學氣相沉積增密處理，或以碳氫氣體為碳源的材料表面或基體等溫CVD/CVI處理及碳氈制品真空碳化其熱處理。
- 設備特點
1.雙層SUS304爐體結構，中間通以冷卻水，有效降低爐體表面溫度，減少高溫傷害，降低對環境的影響；
2.采用*的保溫材料及隔熱結構，導熱系數低，保溫效果好，即使在很高的溫度下也能有效隔絕熱量，節約能耗；
3.能夠準確控制氣體流量和壓力，通過特殊的導氣結構和裝置，大大提高產品的合格率，降低沉積時間；
4.通過特殊的過濾裝置，使其熱解過程的碳粉幾乎*過濾，不進入真空機組，大大延長了真空機組的使用壽命；
5.人性化配置，既可以手動操作，也可以實現一鍵智能操作；
6.型式多樣化，立式上開門、立式底升式、臥式側開門，任意選擇；
7.本產品接受非標定制。
- 設備參數
型號 | 工作區尺寸 | 溫度 | 溫度均勻性 | 冷態極限真空度 | 壓升率 | 加熱功率 |
HVCVD-2030 | Φ200×300 | 1500 | ±5 | 50 | 3 | 25 |
HVCVD-2540 | Φ250×400 | 1500 | ±5 | 50 | 3 | 40 |
HVCVD-3050 | Φ300×500 | 1500 | ±5 | 50 | 3 | 55 |
注：以上技術參數可根據工藝進行調整，不作為驗收依據，具體以技術方案和協議為準。 | ||||||
