離子減薄儀

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更新時間2023-07-12

北京依維特技術服務有限公司

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設備介紹離子減薄儀（PrecisionIonPolishingSystem），為整套TEM樣品制備的道工序，經氬離子減薄的樣品可在TEM下直接觀察，入射角可以從10至-10，制樣速度快，能夠以最小的耗費制備出高質量的TEM樣品；儀器操作方便快捷；配備了低能量離子槍功能，尤其適合對能量敏感性樣品的減薄

離子減薄儀產品詳情

設備介紹

離子減薄儀（Precision Ion Polishing System ），為整套TEM樣品制備的道工序，經氬離子減薄的樣品可在TEM 下直接觀察，入射角可以從10°至-10°，制樣速度快，能夠以最小的耗費制備出高質量的TEM樣品；儀器操作方便快捷；配備了低能量離子槍功能，尤其適合對能量敏感性樣品的減薄。

儀器型號

美國 GATAN Gatan691

技術參數

光束直徑5keV 下350μm
離子電流密度 10mA/cm2
樣品尺寸3mm或2.3mm
減薄角度+10° 到 -10°
離子束能量100eV 到6.0 KeV

案例展示

應用范圍

離子減薄儀（Precision Ion Polishing System ），主要用于陶瓷、半導體、金屬和合金等多種材料的透射電子顯微鏡樣品的制備。

關鍵詞：離子減薄儀電子顯微鏡

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