【儀表網 儀表產業(yè)】今年以來，美國連續(xù)發(fā)布的幾項禁令，讓我國芯片產業(yè)發(fā)展舉步維艱。禁令對于芯片技術和供應鏈的切斷，讓國內基本喪失了在芯片領域發(fā)展的能力。但這樣的局面并不會一直持續(xù)下去，11月14日，據(jù)央視財經報道，我國依托張江地區(qū)的創(chuàng)新努力，已經實現(xiàn)了芯片光刻機從無到有的突破拿到“入場券”，這將為我國芯片自強和崛起帶來極大助力！
光刻機是芯片制造中核心的機器，每顆芯片在誕生之初，都需要經過光刻機的雕刻，且精度要達到頭發(fā)絲的千分之一。對于一個國家的芯片發(fā)展來說，光刻機不可少。但光刻機的研發(fā)和制造卻難度極大，由于系統(tǒng)工程非常復雜，涉及數(shù)十萬零部件和技術，一直以來掌握光刻機制造技術國家不多。
截至目前，光刻機市場主要玩家仍只有荷蘭、美國和日本，發(fā)展基本被其所壟斷。其他國家與企業(yè)要想制造和生產芯片，都必須從ASML、尼康、佳能等企業(yè)購買光刻機。一臺光刻機的價格不僅昂貴，而且獲取還十分不易，因此發(fā)展經常需要看他人的臉色。但如今，我國也擁有了光刻機的“入場券”，這意味著未來在芯片發(fā)展上再也不用受制于人。
對于我國來說，擁有了光刻機“入場券”，代表了我國芯片產業(yè)的自立更生和自強發(fā)展重新燃起了希望。此前華為創(chuàng)始人任正非在談到制裁時曾表示，華為面臨的大困難是國內芯片基礎制造跟不上，其所談論的問題就包括光刻機。而眼下，國產光刻機獲得如此突破，無疑解決了困擾華為長期以來的心病。但欣喜之余，我們也還需要保持客觀和理性。
就現(xiàn)實情況來說，我國才剛剛入門光刻機領域，不管在產品質量和技術方面，仍然與“御三家”存在明顯差距。目前，ASML的光刻機已經達到7nm級別，而我國還在尋求28nm的突破，發(fā)展落后不止一點點。基于此，國產發(fā)展取得突破固然可喜，但也不能過分驕傲和樂觀。未來國產芯片是否能取得理想中的發(fā)展，還需要我們繼續(xù)在光刻機方面加大努力。
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