平晶有平面平晶和平行平晶兩種。平面平晶用于測量高光潔表面的平面度誤差，為用平面平晶檢驗量塊測量面的平面度誤差。
用途：
平行平晶是用于以干涉法測量塊規(guī)，以及檢驗塊規(guī)、量規(guī)、零件密封面、測量儀器及測 平晶量工具量面的研合性和平面度的 常用工具。
適用于光學加工廠、廠礦企業(yè)計量室、精密加工車間、閥門密封面現(xiàn)場檢測使用，也適用于高等院校、科學研究等單位做平面度等檢測。
平行平晶的測量方法：
平晶是利用光波干涉現(xiàn)象測量平面度誤差的，故其測量方法稱為平晶干涉法,也稱技術光波干涉法。測量時,把平晶放在被測表面上,且與被測表面形成一個很小的楔角θ以單色光源照射時會產(chǎn)生干涉條紋。干涉條紋的位置與光線的入射角有關。如入射光線垂直于被測表面，且平晶與被測表面間的間隙很小,則由平晶測量面P反射的光線與被測表面反射的光線在測量面 P發(fā)生干涉而出現(xiàn)明或暗的干涉條紋。若在白光下，則出現(xiàn)彩色干涉條紋。如干涉條紋平直，相互平行,且分布均勻,則表示被測表面的平面度很好；如干涉條紋彎曲，則表示平面度不好。其誤差值為f= (v/ω)×(λ/2)
λ為光波波長，白光的平均波長為0.58μm,ν為干涉帶彎曲量，ω為干涉帶間距。
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