四氟化碳分析氦離子色譜儀適用于高純四氟化碳中痕量雜質(zhì)的檢測(cè)，zui小檢測(cè)濃度可達(dá)5ppb。四氟化碳分析氦離子色譜儀配備高靈敏的氦離子化檢測(cè)器，采用*的中心切割技術(shù)，進(jìn)樣閥均帶有吹掃保護(hù)氣路；整機(jī)采用多柱箱設(shè)計(jì)，并配備進(jìn)樣壓力自動(dòng)校正系統(tǒng)，保證不同底氣的樣品的進(jìn)樣量一致。
四氟化碳分析氦離子色譜儀適用于高純四氟化碳中H2、O2（Ar）、N2、CH4、CO、CO2、SF6、C2F6、C3F8等痕量雜質(zhì)的檢測(cè)，儀器配備高靈敏度的氦離子化（PDHID）檢測(cè)器，采用中心切割與反吹技術(shù)，配置具有吹掃保護(hù)氣路的進(jìn)樣切換閥和進(jìn)口氦氣純化器，通過無死體積取樣或在線進(jìn)樣方式，一次性完成高純氨中雜質(zhì)的檢測(cè)，檢測(cè)限達(dá)ppb級(jí)，重復(fù)性RSD≤1％。
四氟化碳分析氦離子色譜儀系統(tǒng)配置：
（1）GC-9560-HG四氟化碳分析氦離子色譜儀
（2）氦離子化檢測(cè)器（PDHID）
（3）中心切割系統(tǒng)
（4）多柱箱系統(tǒng)
（5）氦氣純化器
（6）標(biāo)準(zhǔn)氣體
（7）色譜柱
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