摘要 顯微鏡特點：便攜式金相顯微鏡由于自帶垂直照明光源，可以很方便的用于現場或無法制作試樣時鑒別各種金屬和合金的組織結構可廣泛的應用在工廠，實驗室進行鑄件質量的鑒定，原材料檢驗或對材料處理后金組織的研究分析等工作，也可…

摘要 顯微鏡特點：102XB工業金相顯微鏡是針對半導體工業、硅片制造業、電子信息產業、冶金工業需求而開發的。作為高級金相顯微鏡用戶在使用時能夠體驗其性能，可廣泛應用于半導體、FPD、電路封裝、電路基板、材料、鑄件/金屬/陶瓷部件、精密模具的檢測，可觀察較厚的標本

摘要■產品用途　　大平臺檢測顯微鏡是專為IT行業大面積集成電路，晶片的質量檢測而設計開發制造的，主體為正置式，三目鏡筒，比傳統的顯微鏡更適合于觀察。適用于電子、機械、化工、科研、院校等部門，以及金相技術檢驗、失效分析等。■產品特點*放大倍數：40X-500X *超大型載物...

摘要【SG-51】正置型金相顯微鏡,儀器采用了反射和透射兩種照明形式，并配有偏光裝置。在反射光照明下可進行明暗場和偏光觀察，又可在透射光照明下作明場觀察。本儀器可選配攝影裝置與顯微鏡相連接拍攝照片等。儀器造型新穎、性能良好、使用方便可靠，可供工廠、高等院校、科研機構及電子...

摘要 ■性能特點*配置大視野目鏡和長距平場消色差物鏡(無蓋玻片)，視場大而清晰。*粗微動同軸調焦機構，粗動松緊可調，帶限位鎖緊裝置，微動格值:2μm。*6V 20W鹵素燈,亮度可調。*三目鏡筒,可自由切換正常觀察與偏光觀察，可進行99%透光攝影。

摘要 ■性能特點*UIS無限遠光學系統。*采用長壽命鹵素燈光源的，光效率更高。*明暗場、偏光、微分干涉功能。*采用非球面Kohler照明，增加觀察亮度。*WF10×（Φ25）超大視野目鏡、長工作距離明暗場金相物鏡。*可插DIC微分干涉裝置的五孔轉換器。

摘要 ■產品特點*性能廣泛，能做明視場、偏光觀察等*穩定、高品質的光學系統使成像更清晰，襯度更好。*粗微動同軸調焦機構，粗動松緊可調，帶鎖緊和限位裝置，微動格值:2μm*配置落射與透射兩套照明系統，能分別對不透明物體或透明物體進行顯微觀察。

摘要 ■性能特點1.配置大視野目鏡和長距平場消色差物鏡(無蓋玻片)，視場大而清晰。 2.粗微動同軸調焦機構，粗動松緊可調，帶鎖緊和限位裝置，微動格值:2μm。3.6V20W鹵素燈，亮度可調。4.可自由切換正常觀察與偏光觀察，可進行99%透光攝影。

摘要■產品特點*采用了UIS高分辨率、長工作距離無限光路校正系統的物鏡成像技術。*拓展了物鏡的復用技術，無限遠物鏡與所有觀察法相兼容包括明暗視野法、偏光法，并在每一觀察法中均提供高清晰的圖像質量。*采用非球面Kohler照明，增加觀察亮度。*WF10X（Φ25）超...

摘要 ■產品特點*WF10X（Φ20）大視野目鏡，無限遠系統金相物鏡。*儀器采用了反射和透射兩種照明形式，并配有偏光裝置。*在反射光照明下可進行明場和偏光觀察，又可在透射光照明下作明場觀察。

摘要倒置金相顯微鏡采用優良的無限遠光學系統與模塊化的功能設計理念，可以方便升級系統，實現偏光觀察、暗場觀察等功能。緊湊穩定的高剛性主體，充分體現了顯微鏡操作的防振要求。符合人機工程學要求的理想設計，使操作更方便舒適，空間更廣闊。適用于金相組織及表面形態的顯微觀察，是金屬學...

摘要 ■產品特點*WF10X（Φ22）大視野目鏡，無限遠系統金相物鏡。*儀器采用了反射和透射兩種照明形式，并配有偏光裝置。*在反射光照明下可進行明暗場和偏光觀察，又可在透射光照明下作明暗場觀察。*本儀器可選配攝影裝置與顯微鏡相連接拍攝照片等。

摘要倒置金相顯微鏡采用優良的無限遠光學系統與模塊化的功能設計理念，可以方便升級系統，實現偏光觀察、暗場觀察等功能。緊湊穩定的高剛性主體，充分體現了顯微鏡操作的防振要求。符合人機工程學要求的理想設計，使操作更方便舒適，空間更廣闊。適用于金相組織及表面形態的顯微觀察，是金屬學...

摘要主要用于鑒別和分析金屬內部結構組織，為金屬物理學研究金相的重要工具。本儀器配有攝影裝置，可拍攝金相圖譜所需的整倍數照片，適用于廠礦企業、高等院校及科研等部門性能特點配置大視野目鏡和長距平場消色差物鏡無蓋玻片，視場大而清晰。粗微動同軸調焦機構，粗動松緊可調，帶鎖緊和限位...

摘要 ■產品特點*儀器底座支承面積較大，彎臂堅固，儀器的重心較低，安放平穩可靠。*目鏡管與支承面呈45°度傾斜，觀察舒適。

摘要 ■產品特點*儀器底座支承面積較大，彎臂堅固，儀器的重心較低，安放平穩可靠。*目鏡管與支承面呈45°度傾斜，觀察舒適。

摘要 ■性能特點*本儀器穩定高品質的光學系統使成像更清晰，襯度更好，簡潔而新穎的外觀更符合時代潮　流，人性化的設計，簡便的操作使工作更輕松愉快。*儀器配用攝相裝置，可攝取金相圖譜，并對圖像進行編輯、輸出、存儲、管理等功能。

摘要 產品特點*儀器采用了反射照明形式，可進行明暗場觀察*配有偏光裝置，暗場裝置。

摘要 ■產品特點*儀器采用了反射照明形式，可進行明暗場觀察*配有偏光裝置，暗場裝置。

摘要LM-4XC Plus 型倒置金相顯微鏡，具有明場、偏光（選配）觀察方式，視野范圍大，分辨率高。科勒照明系統，光源采用30W鹵素燈或5W長壽命LED燈；電氣采用DC6V低電壓輸入設計使用安全可靠。外形符合人機工程學設計，美觀大方，操作簡便、舒適。該機型可選配數碼工業相...

摘要 性能特點*本儀器穩定高品質的光學系統使成像更清晰，襯度更好，簡潔而新穎的外觀更符合時代潮　流，人性化的設計，簡便的操作使工作更輕松愉快。*儀器配用攝相裝置，可攝取金相圖譜，并對圖像進行編輯、輸出、存儲、管理等功能。

摘要 ■產品特點*儀器底座支承面積較大，彎臂堅固，儀器的重心較低，安放平穩可靠。*目鏡管與支承面呈45°度傾斜，觀察舒適。

摘要 ■產品特點*儀器底座支承面積較大，彎臂堅固，儀器的重心較低，安放平穩可靠。*目鏡管與支承面呈45°度傾斜，觀察舒適。

摘要 ①新款升級為采用平場消色差光學系統和落射式柯拉照明系統，落射照明系統中設計防反射結構，有效防止反射光干擾成像光線，從而使升級款成像更清晰、視場襯度更好。②工作臺、光強與粗微調的低位操作，使用更舒適

摘要 適用于金屬鋼鐵,化工材料行業科研,質檢和質控部門等研究，反射光可實現明場,暗場,偏光,微分干涉,熒光觀察功能，透射光可實現明場,暗場,偏光,微分干涉觀察功能，可接CCD相機配合圖像分析軟件進行材料分析。

摘要 全新研發豪華配置12XB-PC，搭配U-DICR微分干涉組件，可以將明場觀察下無法檢測的細微高低差，轉化為高對比度的明暗差并以立體浮雕形式表現出來，如LCD導電粒子，精密磁盤表面劃痕等。

摘要 廣泛應用于應用于教學科研金相分析、半導體硅晶片檢測、地址礦物分析、精密工程測量等領域。也可應用于電子、光纖、紡織、印刷及微顆粒、粉末、同時也可用于食品安全評估、醫學研究地質研究等。

摘要 廣泛應用于應用于教學科研金相分析、半導體硅晶片檢測、地址礦物分析、精密工程測量等領域。也可應用于電子、光纖、紡織、印刷及微顆粒、粉末、同時也可用于食品安全評估、醫學研究地質研究等。

摘要 DM 2700M 金相顯微鏡

摘要 4XC對于外形不規則或較大的試樣也可進行顯微鏡觀察，倒置式的儀器設計，操作時試樣觀察表面向下，并與工作臺面重合，而對試樣的高度和平行度無要求，適合于外形不規則或較大的試樣。

摘要 DM 4M 金相顯微鏡

摘要 ①新款升級為采用平場消色差光學系統和落射式柯拉照明系統，落射照明系統中設計防反射結構，有效防止反射光干擾成像光線，從而使升級款成像更清晰、視場襯度更好。②工作臺、光強與粗微調的低位操作，使用更舒適

摘要徠卡DM12000M全新的光學設計,可以提供宏觀模式快速初檢,以及傾斜紫外光路功能(OUV, 傾斜紫外觀察模式) 不單提升了分辨率還提高了檢查12英寸(300毫米)硅片的產能。新的 LED 照明技術 一體化設計并整合在顯微鏡上. 低熱輻射和機身內一體化技術確保了理想的...

摘要 Leica DCM8采用了新的非接觸式三維光學表面測量技術。設計用于提高您的工作效率，它是一款融合了高清晰度共聚焦顯微鏡和干涉測量技術優點的多功能雙核系統。一鍵模式選擇，精密軟件、無移動部件的高分辨率共聚焦掃描技術確保用戶實現超快速的分析操作。

摘要 ■性能特點*配置大視野目鏡和長距平場消色差物鏡(無蓋玻片)，視場大而清晰。*粗微動同軸調焦機構，粗動松緊可調，帶限位鎖緊裝置，微動格值:2μm。*6V 20W鹵素燈,亮度可調。*三目鏡筒,可自由切換正常觀察與偏光觀察，可進行99%透光攝影。

摘要 DM 6M 金相顯微鏡

摘要 4XC-MS倒置金相顯微鏡

摘要 OLYMPUS GX41倒置金相顯微鏡

摘要 OLYMPUS GX53倒置金相顯微鏡

摘要 蔡司Axio Observer金相顯微鏡

摘要 Leica DM ILM 倒置金相顯微鏡

摘要 Leica DM6 M 正置金相顯微鏡

摘要 Leica DM4M正置金相顯微鏡

摘要 麥克奧迪BA310Met金相顯微鏡

摘要 ICX41M倒置金相顯微鏡